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      屏幕顯示行業(yè)越來越火，隨之對鍍膜工藝的要求也越來越高，膜厚測試的需求也變得越來越多。膜厚測試有很多種方法，今天我給大家介紹無損檢測的兩種光學(xué)測試方法：薄膜反射干涉法和橢偏光譜法。

一、薄膜反射干涉測量膜厚
      測量原理:入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得到第一束光,折射光經(jīng)薄膜下表面反射又經(jīng)上表面折射后得到第二束光,這兩束光在薄膜的同側(cè),由同一入射振動分出,是相干光,當(dāng)兩束光相遇時會產(chǎn)生干涉。

根據(jù)公式：
       Δ=2ntcos(θt)±λ/2
      式中n為薄膜的折射率，t為入射點的薄膜厚度，θt為薄膜內(nèi)的折射角，±λ/2 是由于兩束相干光在性質(zhì)不同的兩個界面(一個是光疏-光密界面，另一是光密-光疏界面)上反射而引起的附加光程差。

      系統(tǒng)配置：光譜儀、光源、反射探頭、支架、標(biāo)定硅片
      優(yōu)點：適用于大部分已知n、k系數(shù)的介質(zhì)的透明、半透明材料，且成本相對低。（需要知道測試樣品的n、k值，才能測得膜厚）

干涉法軟件界面-海洋光學(xué)

二、橢偏光譜法測量膜厚

      測量原理：光源經(jīng)過起偏器和濾鏡后得到已知入射光的偏振態(tài)，偏振光在樣品表面被反射,測量得到反射光偏振態(tài)（幅度和相位），可計算出材料的光學(xué)屬性，包括膜厚、透過率、消光系數(shù)等。
橢偏儀測量的公式比較復(fù)雜，不在這里展開。需要了解的請直接聯(lián)系我們。

      系統(tǒng)配置：光源、起偏器、濾片、檢偏器、光譜儀。
      優(yōu)點：測量精度高，可以測量超薄膜的膜厚，可以測得多層介質(zhì)的n、k系數(shù)。

橢偏法軟件界面-海洋光學(xué)